EUV光刻,迎来挑战者
2025-01-09(原标题:EUV光刻,迎来挑战者) 如若您但愿不错时常碰面,接待标星保藏哦~ 起首:本色编译自IEEE,谢谢。 2024年9 月,佳能推出了首款商用版技艺,该技艺有朝一日可能会颠覆伊始进的硅芯片制造工艺。这项技艺被称为纳米压印光刻 (NIL) ,能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化,从而使逻辑芯片能够与目下量产的英特尔、AMD和Nvidia处理器相比好意思。 NIL 系统的上风可能会挑战目下主导先进芯片制造的 1.5 亿好意思元机器——极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。如若佳能的斟酌正确,